Équipement de métrologie remis à neuf
Entrepix propose des équipements de métrologie rénovés de Rudolph et CDE.
Ellipsomètre de Rudolph AutoEL II, III et IV
Spécifications et capacités :
Abordable et performant
Mesure avec précision une grande variété de films
Le microprocesseur interne automatise le fonctionnement du système et affiche les valeurs delta et psi sur le panneau avant.
Le logiciel interne de réduction des données transforme automatiquement le delta et le psi en épaisseur et en indice de réfraction.
Le logiciel optionnel de réduction des données fonctionne sur PC et s'interface directement via un port série RS232 standard.
Les utilisateurs peuvent retrouver les paramètres des échantillons précédents lors de mesures ultérieures grâce à la mémoire non volatile (AutoEL III).
Accélère les analyses de matériaux similaires
Une imprimante thermique fournit une copie papier des résultats (AutoEL III)
Source lumineuse à trois longueurs d'onde pour sélectionner la longueur d'onde idéale pour chaque échantillon (AutoEL IV)
Élimine les ambiguïtés de commande et autres problèmes liés à la mesure d'une épaisseur proche du cycle complet (AutoEL IV).
Le système de sécurité intégré commute automatiquement le système optique sur la longueur d'onde sélectionnée et apporte les modifications nécessaires au logiciel de réduction des données (AutoEL IV).
Microprocesseur maître/esclave avec logiciel de réduction des données étendu (AutoEL IV)
Ellipsomètres Rudolph Focus : FE III, FE IV et FE VII
Spécifications et capacités :
Résultats précis et reproductibles et mesures précises de l'épaisseur du film
Le laser HeNe à longue durée de vie fournit un rapport signal/bruit élevé pour la répétabilité et la précision de la longueur d'onde de la transition atomique.
La technologie utilise la technique de mesure du premier principe du NIST pour calibrer les étalons de référence de l'épaisseur.
Le système Advanced Focused Beam™ utilise une technologie à double longueur d'onde qui mesure avec un petit spot à plusieurs angles d'incidence et longueurs d'onde.
Permet d'obtenir des résultats très sûrs sur des films multicouches complexes
Données fiables et rapides pour les portes de moins de 30 angströms, les polyimides épais, les ILD sur ARC ou les processus multiparamétriques à petite échelle.
Deuxième source lumineuse en option (FE III)
Calcul de jusqu'à six inconnues sur des empilements de films multicouches complexes, tels que OPO et ONO, pour l'épaisseur et la composition du film (FE VII)
Caractéristiques :
Système de métrologie de technologie avancée
Précision inhérente pour une adaptation facile du système
Double longueur d'onde pour une résolution absolue
Transport d'eau à haut débit jusqu'à 29 gaufres par heure
Reconnaissance robuste des formes
Chargement en file d'attente pour des mesures, une configuration et un examen des données simultanés
Aligneur rapide et précis de plaquettes plates ou dentelées
Logiciel puissant et facile à utiliser
Logiciel conforme à GEM/SECS II
Modèle CDE ResMap 168
Spécifications et capacités :
Pour les besoins de production inférieurs à 300 mm
Fiabilité, précision et répétabilité pour les ingénieurs spécialisés dans les couches minces
Chargement automatique des cassettes
Réduit le coût de possession de la métrologie des couches minces pour le CMP, l'implantation ionique, le développement et le contrôle des processus de diffusion.
Plus d'informations sur les équipements de métrologie reconditionnés
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