Développement de procédés et services CMP

Accélérez votre processus CMP grâce à Entrepix CMP Foundry

Entrepix propose des services liés aux procédés CMP, au développement de procédés CMP, au conseil en CMP, à l'optimisation des procédés, à l'évaluation des consommables ainsi qu'à l'externalisation des traitements CMP pour des applications dans le domaine des semi-conducteurs et des matériaux de pointe.

Notre équipe d'experts en applications allie une connaissance approfondie des procédés CMP à des équipements de développement spécialisés, ainsi qu'à des capacités avancées en matière de nettoyage de plaquettes et de métrologie, afin d'aider nos clients à résoudre des problèmes complexes de planarisation, à raccourcir les cycles de développement et à réduire les risques.

De l'évaluation de la faisabilité initiale du CMP à l'élaboration et à la validation d'un dossier de procédure complet (POR), Entrepix met à votre disposition l'expertise et l'infrastructure nécessaires pour faire avancer votre projet.

En quoi la fonderie CMP d'Entrepix peut-elle vous aider ?

Chaque défi lié au CMP est unique. Les matériaux, les structures des dispositifs, les consommables, les équipements, les exigences en matière de nettoyage et les objectifs de performance influencent tous le processus final.

Entrepix travaille en étroite collaboration avec ses clients pour développer de nouveaux procédés de CMP, optimiser les procédés existants et évaluer des solutions potentielles. Notre vaste expérience en matière de procédés et notre environnement de R&D dédié permettent de mener des expérimentations et d'itérer les procédés sans mobiliser les précieux équipements de production de nos clients.

Services de traitement CMP adaptés à votre application

Développement de procédés CMP

Développer et valider des procédés CMP pour des matériaux complexes, des structures de dispositifs et des applications émergentes.

Optimisation des processus CMP

Améliorer le taux d'élimination, l'uniformité, le taux de défauts, la qualité de surface, les performances de nettoyage et la stabilité globale du processus.

CMP Consulting

Bénéficiez d'une assistance expérimentée pour les applications CMP en matière de dépannage, d'analyse technique et d'optimisation des processus.

Évaluation des consommables et du matériel

Réaliser des évaluations comparatives contrôlées de suspensions, de tampons, de produits chimiques de nettoyage post-CMP, de matériel et d’autres variables du processus.

Études de faisabilité et élaboration du cahier des charges préliminaire

Déterminer si les nouveaux matériaux et les nouvelles structures sont capables de résister au traitement CMP, puis mettre au point et valider un procédé de référence optimisé.

Production CMP externalisée

Bénéficiez d'un traitement CMP certifié pour vos programmes de développement, vos start-ups, vos productions pilotes ou vos applications lorsque vos capacités internes sont limitées.

Du « CMP Challenge » au « Process of Record »

Une approche structurée du développement des procédés CMP

La mise au point d'un processus CMP performant ne se limite pas à la définition d'une recette de polissage. Entrepix évalue l'interaction entre le substrat ou le dispositif, la configuration de l'outil, les consommables, les produits chimiques, les processus de nettoyage et les exigences de performance afin de développer une solution adaptée à votre application spécifique.

1
Première étape

Définir les exigences

Matériaux
Structure du dispositif
Contraintes d'intégration
Objectifs de performance

→
2
Deuxième étape

Développer

Équipements CMP
Suspensions et pastilles
Produits chimiques
Paramètres de processus

→
3
Troisième étape

Valider

Enlèvement et uniformité
Défauts
Qualité de surface
Nettoyage et métrologie post-CMP

→
4
Étape 4

Échelle

Processus d'enregistrement
Qualification
Transfert de processus
Production / iFlow

Applications et matériaux CMP

Vaste expérience dans les procédés et les matériaux de CMP

Entrepix a développé une expertise en matière de CMP tant dans les procédés traditionnels de fabrication de semi-conducteurs que dans les applications émergentes, les semi-conducteurs composés et les matériaux de substrat avancés. Cette vaste base de connaissances permet de réduire le travail de recherche initial nécessaire au développement d'un nouveau procédé.

Expérience en matière de processus

CMP traditionnel

  • Oxyde
  • Tungstène
  • Cuivre
  • Métaux barrières
  • IST
  • Polysilicium
  • Diélectriques à faible constante diélectrique
  • Diélectriques à constante diélectrique ultra-faible
  • Portails métalliques
  • Diélectriques à constante diélectrique élevée
  • Aluminium
  • Analogique et RF
  • ILD
  • TSV
Technologies émergentes

Applications avancées et émergentes

  • Conditionnement avancé pour l'IA
  • Photonique et guides d'ondes
  • MEMS
  • µLED
  • Informatique quantique
  • Collage direct de plaquettes
  • Plaquettes ultra-minces
  • Dispositifs de puissance
  • Réseaux de détecteurs
  • LED et optique
  • Dispositifs innovants / « More-than-Moore »
Expertise en matière de matériaux

Substrats et matériaux de pointe

  • Silicium et SOI
  • InP et InGaP
  • GaAs et AlGaAs
  • GaN
  • SiC
  • SiGe
  • Saphir
  • Diamant et DLC
  • Niobate / tantalate de lithium
  • Quartz et verre
  • AlN sur silicium
  • GaN sur silicium

Capacités de la fonderie CMP

Développer à l'aide d'une infrastructure CMP adaptée à la production

Pour mettre au point un procédé CMP performant, il est indispensable de savoir polir, nettoyer, caractériser et itérer. La fonderie CMP d'Entrepix réunit des équipements CMP, des capacités de nettoyage post-CMP et des moyens de métrologie au sein d'un environnement de développement dédié.

Équipement CMP

Plateformes CMP adaptées à la production

AMAT Mirra
IPEC 472

Équipements CMP destinés au développement, à l'optimisation, aux essais et à la qualification des procédés.

Nettoyage des plaquettes

Nettoyage après le CMP

OnTrak DSS-200

Capacité avancée de nettoyage des plaquettes après CMP pour le développement de procédés intégrés de CMP et de nettoyage.

Environnement de développement

Fonderie CMP spécialisée

Classe 100 / ISO 5

Environnement en salle blanche dédié au développement des procédés CMP, à l'évaluation des consommables et aux essais.

Métrologie

Mesurer et valider les résultats

Épaisseur du film et du substrat Mesure du TTV Profilométrie à balayage long Analyse de surface par AFM Microscopie et MEB Analyse des particules en surface

Accélérez votre parcours vers le POR

Plus de 50 ans d'expérience dans le domaine de la gestion des déchets (CMP) et du nettoyage à

VASTE GAMME DE PROCÉDÉS CMP
Partir des connaissances existantes, et non de zéro

CENTRE DE R&D SPÉCIALISÉ
Développer sans mobiliser les capacités de production

ZERO CMP INVESTISSEMENT EN CAPITAL
Accédez au matériel, à l'expertise et aux outils de métrologie selon vos besoins

Services de processus intégrés et décentralisés iFab™

Quand votre processus ne s'arrête pas au CMP

De nombreux programmes de développement de semi-conducteurs et de matériaux avancés nécessitent plusieurs étapes de traitement spécialisées, au-delà du CMP et du nettoyage post-CMP. La coordination de ces capacités entre différents fournisseurs peut allonger la durée du processus de développement, en accroître la complexité et en augmenter les risques.

iFab™ étend les services de traitement CMP d'Entrepix au-delà de la fonderie en associant ses compétences clés en matière de CMP, de nettoyage de plaquettes et de métrologie à des ressources complémentaires dans le domaine des procédés de semi-conducteurs. Les clients peuvent faire appel à Entrepix pour une seule étape de processus ou pour une coordination plus large d'un flux de processus distribué.

Il en résulte une approche plus intégrée du développement des procédés, qui permet à votre équipe de se concentrer sur l'application tandis qu'Entrepix se charge de coordonner les étapes nécessaires pour passer du concept à un procédé validé.

iFab™
Services de traitement distribué
Coordination des capacités spécialisées de fabrication de semi-conducteurs en fonction de vos besoins de développement
ENTREPIX CORE
NETTOYAGE CMP + POST-CMP

s des tests et des appareils Acquisition des plaquettes
Revêtement et
des plaquettes Arrondissage des bords
Gravure au laser sur plaquette
Dépôt de film
Métallisation
Métrologie et
Analyse

s temporaires et directes Assemblage de plaquettes
Amincissement, rodage
et meulage arrière des plaquettes
Découpe de plaquettes

Prêt à relever plus rapidement votre prochain défi en matière de CMP ?

Que vous développiez un procédé pour un nouveau matériau, que vous optimisiez un procédé CMP existant, que vous évaluiez des consommables ou que vous vous prépariez à passer à une plus grande échelle, Entrepix met à votre disposition son expertise, ses équipements et ses ressources en matière de développement de procédés pour vous aider à atteindre vos objectifs plus rapidement et avec moins de risques.

Transformons votre projet CMP en un processus prêt à être mis en production.